LS膜分析仪
1. 产品简介
   KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。LS（Langmuir-Schaefer）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备，是LS膜的沉积领域应用最广泛的一款全球领先设备。
      LS膜分析仪基本组件与LB膜分析仪相同，但将原有垂直镀膜头更换为水平镀膜头组件，在所需的堆积密度下，镀膜头可以用来将Langmuir膜水平转移到固体基材上，Langmuir膜的密度，厚度及均匀性等性质将会保留，从而实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。
   常规的LS膜分析仪包含三种型号的槽体：小型、中型、大型。
2. 工作原理
   位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。
   在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。

图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响
LS膜沉积过程是将样品从单分子层中水平拉出（图2），通过反复沉积技术可制备多层LS膜，亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。
图2 LS沉积过程示意图
3. 技术参数
3.1 小型LS膜分析仪（KN 2001）
1.      槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口
2.      框体特性：33 mm槽体高度调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口
3.      系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 
4.      槽体表面积： 98 cm2 
5.      槽体内部尺寸：195 x 50 x 4 mm（长 x 宽 x高）
6.      滑障速度: 0.1-270 mm/min
7.      滑障速度精度: 0.1  mm/min
8.      测量范围：0-150 mN/m
9.      天平最大负荷: 1 g，可三维 
10.  天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
11.  传感精度: 4 μN/m
12.  表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒
13.  Langmuir测试槽亚相容积：39 ml
14.  Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：57 ml
15.  镀膜井尺寸：20 x30 x 30 mm（长 x 宽 x高）
16.  最大基材尺寸：3 x 26 x26 mm或1英寸 
17.  最大镀膜冲程： 80 mm
18.  镀膜速度：0.1 – 108 mm/min
19.  电源： 100...240 VAC
20.  频率： 50...60 Hz
3.2 中型LS膜分析仪（KN 2002）
1.      槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口
2.      框体特性：TUNEology 波长可调检测卡盒-->