交替型LB膜分析仪
1. 产品简介
     KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备，是LB膜的沉积领域应用最广泛的一款全球领先设备。
     LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头，在所需的堆积密度下，镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上，镀膜井可以在Langmuir膜下为固体样品提供空间。将Langmuir膜转移到样品上，密度，厚度及均匀性等性质将会保留，从而实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。与其他有机薄膜沉积技术相?，LB沉积方法受功能性分子的分子结构限制影响很小，这意味着LB技术是唯一能够进行自下向上的一种组装方法。
  交替型LB膜分析仪为我公司LB膜分析仪系列中的一款特色产品。它可用于两种材料的交替层镀膜，包括两个槽体，两个表面压力传感器和两对滑障。该槽有两种尺寸，标准型和大型。
2. 工作原理
   位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。
   在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并??发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。

图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响
LB膜沉积过程是将样品从单分子层中垂直拉出（图2a），通过反复沉积技术可制备多层LB膜（图2b），亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。

图2 (a). LB沉积过程示意图；(b). 多层单分子膜的制备
    交替型LB膜分析仪的镀膜过程如图3所示。当使用两个单分子层压缩沉积池和一个空白沉积池时，可实现交替镀膜，浸渍过程可在3个沉积池中选择任意路径多次循环（图3a）；在共同的亚相（浅蓝色）上方，有两种不同的单分子层（紫色和深蓝色）（图3b）；上臂将样品向下通过单分子膜，由下臂接住样品。沉积循环也可从亚相开始，进行第一层镀膜（图3c）；下臂可根据需要旋转到另一单分子层的沉积池或空白沉积池中，改变沉积池（图3d）；下臂提起样品，传递给上臂（样品从任意一侧通过两个单分子层中任意一个），进行第二层镀膜（图3e）。

图3 (a). 交替沉积池构造示意；(b). 样品在在夹具上；(c). 第一层镀膜；(d). 改变沉积池；(e). 第二层镀膜
3. 技术参数
3.1 交替型LB膜分析仪（KN2006）
1.      槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口
2.      框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口
3.      系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 
4.      槽体表面积：587 cm2 (*2)
5.      槽体内部尺寸：782 x 75 x 5 mm（长 x 宽 x高, *2）
6.      滑障速度: 0.1-200 mm/min
7.      滑障速度精度: 0.1  mm/min
8.      测量范围：0-150 mN/m
9.      天平最大负荷: 1 g
10.  天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）
11.  传感精度: 4 μN/m
12.  表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/TUNEology 波长可调检测卡盒-->